ICH杂质控制指南的要求与实践应用分析
该思维导图概述了ICH杂质控制指南的核心要求,包括Q3A(新原料药杂质)、Q3B(新制剂杂质)、Q3C(残留溶剂)、Q3D(元素杂质)、M7(基因毒性杂质)。每个分支详细说明了控制对象、阈值设置、分析方法及控制策略,同时强调了风险评估的重要性。交叉关联部分指出了相似之处,并提到最新修订版本和实际应用的必要性,促进了药物开发过程中的杂质控制与管理。
源码
# ICH杂质控制指南的要求与实践应用分析
## 中心主题:ICH杂质控制要求
### 一级分支1:Q3A(新原料药中的杂质)
- 控制对象
- 有机杂质
- 合成副产物
- 降解产物
- 无机杂质
- 残留催化剂
- 关键阈值
- 报告阈值
- 0.05%(日剂量≤2g)
- 鉴定阈值
- 0.10%
- 1.0mg
- 取更低值
- 界定阈值
- 0.15%
- 1.0mg
- 取更低值
- 分析方法
- 色谱法
- HPLC
- GC
- 需验证方法的灵敏度和专属性
### 一级分支2:Q3B(新制剂中的杂质)
- 控制对象
- 降解产物
- 原料药
- 辅料
- 制剂工艺引入的杂质
- 阈值调整
- 基于日剂量动态调整
- 日剂量>2g时阈值降低
- 特殊要求
- 需评估杂质是否与原料药相同或新增
### 一级分支3:Q3C(残留溶剂)
- 分类与限值
- Class 1
- 致癌溶剂
- 例:苯
- 严格禁用
- Class 2
- 毒性溶剂
- 例:甲苯
- 设定PDE(每日允许暴露量)
- Class 3
- 低毒溶剂
- 例:乙醇
- 限值通常为0.5%
- 分析方法
- 顶空GC法为主
### 一级分支4:Q3D(元素杂质)
- 风险分类
- Class 1
- As
- Cd
- Hg
- Pb
- 必须控制
- Class 2A
- Co
- Ni
- V
- 需评估风险
- Class 2B
- Au
- Ag
- Pt
- 低关注度
- Class 3
- Ba
- Cr
- Cu
- 通常无需控制
- 控制策略
- 基于风险评估
- 来源
- 原料
- 设备
- 工艺
- 限值依据PDE计算
- 例:Cd的PDE为5μg/天
### 一级分支5:M7(基因毒性杂质)
- 控制原则
- AI(可接受摄入量)
- 基于毒理学数据
- 例:≤1.5μg/天
- TTC(毒理学关注阈值)
- 默认限值1.5μg/天
- 分类管理
- 已知致癌物
- 例:亚硝胺
- 严格按AI控制
- 警示结构杂质
- 需进行细菌突变试验
- Ames试验
- 分析方法
- 高灵敏度LC_MS/MS
- GC_MS
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## 补充说明
- 交叉关联
- Q3D与M7
- 关注极低浓度的高风险杂质
- Q3D针对元素
- M7针对有机物
- Q3A/Q3B与M7
- 可能重叠
- 基因毒性降解产物需额外评估
- 最新版本
- Q3D
- R2, 2019年修订
- M7
- R2, 2022年新增附录
- 实践应用
- 需结合风险评估
- QbD理念
- 生命周期管理
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